摘要: 目的比较抛光与上釉对纳米陶瓷表面粗糙度的影响。方法用纳米陶瓷粉(IMAGINEREFLEX)制备盘状试件40个,随机分为A、B两组。A组抛光组用240#~1500#碳化硅砂纸依次逐级打磨,最后用金刚砂抛光膏完成抛光。B组上釉组重新表面上釉。以粗糙度测试仪测试两组试件表面分别经抛光和表面上釉后表面粗糙度值并进行统计学分析,扫描电镜观察和评估样本表面形貌。结果纳米陶瓷IMAGENEREFLEX抛光组和上釉组表面粗糙度值无显著性差异(P>0.05);扫描电镜结果显示抛光组和上釉组表面无明显差异,均较为光滑,抛光组表面散在少量细小孔隙。结论对于纳米陶瓷的表面处理,抛光可以获得和重新上釉相同的表面光滑度。