›› 2008, Vol. 28 ›› Issue (4): 195-197.

• 基础与临床研究 • 上一篇    下一篇

种植体材料钛与种植体上部结构合金间电偶腐蚀性能的研究

汤雅,王国平,王培志   

  • 出版日期:2008-04-28 发布日期:2016-01-07

  • Online:2008-04-28 Published:2016-01-07

摘要: 目的 评价TA2型商业纯钛分别与金合金、钴铬合金、钛合金及镍铬合金在体外的电偶腐蚀行为。方法 在人工唾液中体外模拟TA2型商业纯钛分别与金合金、钴铬合金、钛合金及镍铬合金接触时的回路,测量其15 h的混合电位和电偶电流值并描绘电流时间曲线。结果 四组合金接触8 h后电流达到稳定,稳定后电偶电流值排列顺序为Ti/Au

关键词: 正畸学, 牙缺失, 治疗