›› 2008, Vol. 28 ›› Issue (2): 70-71,77.

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二次烧结温度对牙科纳米氧化锆陶瓷抗弯强度影响的实验研究

孙蕾,张富强,高益鸣,靳喜海,高濂   

  • 出版日期:2008-02-28 发布日期:2016-01-07

  • Online:2008-02-28 Published:2016-01-07

摘要: 目的 研究二次烧结温度对纳米氧化锆陶瓷强度的影响。方法 经初步烧结的氧化锆瓷块,在不同温度下进行第二次烧结,检测三点抗弯强度,X线衍射分析晶相,扫描电镜下观察试件的微观结构。结果 当第二次烧结温度为1325℃时,材料的三点抗弯强度最高,达到(932±63)MPa。陶瓷主晶相为四方相,晶体大小均匀,排列紧密。结论 经二次烧结的氧化锆瓷块具有足够的抗弯强度,能够满足口腔全瓷修复材料的要求。

关键词: 陶瓷, 氧化锆, 抗弯强度